光譜膜厚儀-一六儀器(在線咨詢)-寧波測厚儀

一六儀器  國內外通力合作打造高性價比X熒光測厚儀  

一六儀器研發生產的X熒光光譜儀，穩定的多道脈沖分析采集系統，獨特聚焦和變距設計，多元EFP算法，涂層測厚儀，簡便快速測試各種涂鍍層的厚度及成分比例

涂層測厚儀操作規程有哪些

   我們在使用涂層測厚儀時，如果不了解涂層測厚儀的操作規程，寧波測厚儀，那么就很容易出現一些問題，甚至嚴重的可能會對自身產生威脅，那么涂層測厚儀的操作規程有哪些，光譜膜厚儀，下面就來了解下先：

  一、技術參數

  采用了磁性和渦流兩種測厚方法。通過選擇相應的測頭，即可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度，又可測量非磁性金屬基體上非導電覆蓋層的厚度；

  測量范圍：（0~1250）μm（F1、N1測頭），膜厚測試儀，F10測頭可達10mm；

  分辨率：0.1μm（F1、N1測頭）

  示值精度：±（3％H 1）μm；H為被測涂層厚度

  顯示方法：高對比度的段碼液晶顯示，高亮度EL背光；

  存儲容量：可存儲20組（每組多50個測量數值）測量數據

  單位制：公制μm、英制（mil）、可自由轉換 ? 工作電壓：3V（2節5號堿性電池）

  持續工作時間：大于200小時（不開背光燈）

  通訊接口：USB1.1，可與PC機連接、通訊

X射線熒光的基本原理

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X射線熒光是由原級X射線照射待測樣品時所產生的次級X射線，入射的X射線具有相對較大的能量，使其可以轟擊出位于元素原子內層中的電子。X射線熒光光譜的波長在0.01-10納米之間，能量在124KeV-0.124KeV之間。用于元素分析中的X射線熒光光譜波長的范圍在0.01-11納米之間，能量為0.111-0.124KeV。

   當X射線激發出試樣特征X射線時，其入射電磁輻射能量必須大于某一個值才能引起其內層電子激發態從而形成空穴并引起電子的躍遷，這個值是吸收限，相當于內層電子的功函數。如果入射電磁輻射的能量低于吸收限則在任何情況下都不能激發原子內層電子并產生特征X射線。

江蘇一六儀器  國內外通力合作打造高性價比X熒光測厚儀 穩定的多道脈沖分析采集系統，獨特聚焦和變距設計，多元EFP算法，簡便快速測試各種涂鍍層的厚度及成分比例

測厚儀的應用：

1、激光測厚儀是利用激光的反射原理，根據光切法測量和觀察機械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測量產品的厚度，是一種非接觸式的動態測量儀器。它可直接輸出數字信號與工業計算機相連接，并迅速處理數據并輸出偏差值到各種工業設備。

2、X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時，X射線的強度的變化與材料的厚度相關的特性，滄州歐譜從而測定材料的厚度，是一種非接觸式的動態計量儀器。它以PLC和工心，采集計算數據并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統，達到要求的軋制厚度。主要應用行業：有色金屬的板帶箔加工、冶金行業的板帶加工

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