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物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。

真空蒸鍍：在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發(fā)，然后凝結(jié)在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。

濺射：濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材（陰極），使靶材表面原子以一定能量逸出，后在工件表面沉積的過程。

離子鍍：離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發(fā)離子化，并在這些荷能離子轟擊基體（工件）表面并同時沉積在其上形成鍍膜。

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真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中，然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結(jié)形成具有一定厚度的沉積層日。

真空鍍膜的形式：蒸發(fā)鍍膜

工藝原理：

1）在真空室中，膜料被加熱變成蒸發(fā)原子，蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣

體分子碰撞而到達(dá)工件表面；

2）蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；

3）吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴(kuò)散。

離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，習(xí)而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽0窄縫。等其他方法難鍍的部位。