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發(fā)布時(shí)間:2021-04-05 17:23  
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EDI設(shè)備的污染判斷及清洗方法
EDI設(shè)備的污染判斷及清洗方法 雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會(huì),但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展,EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞,這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì),在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過(guò)0.8ppm)、CO2和較高的 PH 值,將會(huì)加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過(guò)化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI膜塊進(jìn)行清洗,使之恢復(fù)到原來(lái)的技術(shù)特性。
2t純水設(shè)備操作中的注意事項(xiàng)
2t純水設(shè)備操作中的注意事項(xiàng) 1、本機(jī)產(chǎn)水量在水溫25℃時(shí)為450L/H以上,水溫上升或下降1℃,產(chǎn)水量會(huì)相應(yīng)增加或減少3%左右,此為RO膜特性決定的。 2、進(jìn)入RO膜的水應(yīng)嚴(yán)格控制余氯含量在0.1PPm以下,方法是:吸附濾器取樣口接水,用余氯測(cè)定劑檢測(cè),若超標(biāo),應(yīng)換活性炭濾料。 3、若進(jìn)水量不足或壓力過(guò)低時(shí),本機(jī)缺水欠壓系統(tǒng)使設(shè)備自動(dòng)停機(jī)。 4、本機(jī)在初次使用時(shí),由于膜內(nèi)含有防腐劑緣故。出水電導(dǎo)率將偏高,沖洗1-2小時(shí)并正常制水一段時(shí)間,出水電導(dǎo)率將明顯降低。

超純水機(jī)的應(yīng)用系統(tǒng)介紹
超純水機(jī)的應(yīng)用系統(tǒng) 1、電子、半導(dǎo)體行業(yè):制取電子工業(yè)生產(chǎn)如單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊,顯象管,玻殼,液晶顯示器等制造工業(yè)用純水、超純水機(jī)。 2、 行業(yè)用水:制藥、制劑工藝用水,血液透析、生化分析、輸液等。 3、鍋爐水處理:石油、化工、煉油、火力發(fā)電、電力、制取熱力、冶金、食品、造紙等行業(yè)中鍋爐,廠礦企業(yè)高、中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。 4、飲料行業(yè):飲用純凈水、蒸餾水、天然水、礦泉水、礦化水、酒類生產(chǎn)白酒勾兌用純水、啤酒糖化投料用水及純生啤酒過(guò)濾等。 5、賓館、樓宇、社區(qū)供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化。 6、制取電鍍工藝用去離子水、電池(蓄電池)生產(chǎn)工藝的純水,汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗純水,鍍膜玻璃用純水,紡織印染工藝所需的除硬鹽水。 7、石油化工行業(yè):如化工反應(yīng)冷卻、化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過(guò)程用工藝純水

控制系統(tǒng)軟件包括:a)固件、操作系統(tǒng)和應(yīng)用軟件
控制系統(tǒng)軟件包括: a)固件、操作系統(tǒng)和應(yīng)用軟件: 這是用戶可以或不可以使用的裝入存儲(chǔ)器的軟件。當(dāng)由控制系統(tǒng)執(zhí)行的功能可分為臨界性或非臨界時(shí),要分離或隔離固伯、操作系統(tǒng)、應(yīng)用軟件和有關(guān)的硬件功能是不可能的。因此,如果認(rèn)為控制系統(tǒng)的某些功能是臨界性的,那么,則可認(rèn)為上述全部軟件是臨界性的,并且應(yīng)進(jìn)行驗(yàn)證。 b)用戶配置軟件: 用戶配置軟件的功能可定義為臨界性的或非臨界性的。臨界或模件需要強(qiáng)化文件編制,包括驗(yàn)證。有些情況下,要分離或隔離軟件是不可能的,在這種情況下,若有些功能是非曲直臨界性的,則必須驗(yàn)證所有軟件。
