許昌專業鍍鈦廠家報價滿意的選擇

點可蒸發任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面，熱

缺點電子槍結構復雜，造價高化合物沉積時易分解，化學比失調

3激光蒸發鍍膜

采用高能激光束對材料進行蒸發，用以形成薄膜的方法，一般稱為激光蒸鍍。

優點薄膜純度高蒸發速率高特別適合蒸發成分復雜的合金或化合物，膜層的化學計量比與靶材保持一致

缺點

    易產生微小顆粒飛濺，影響薄膜質量

蒸發源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發源與工件之間產生輝光放電。離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。由于真空罩內充有惰性氣，在放電電場作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發源交流電源，蒸發料粒子熔化蒸發，進入輝光放電區并被電離。

氮化鉻涂層 （CrN）

CrN涂層具有良好的抗粘結性，抗腐蝕性，耐磨性。

用途：加工鋁合金，紅銅的刀具，注塑模具，零件（特別是有潤滑油浸泡）

5）DLC

DLC涂層的組成為TIN TICN DLC結構。具有摩擦系數較低，

耐磨損，膜層應力小好等優點

用途：潤滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。

6）ZrN

ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時可有效減少切削瘤

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發源到基片的距離為L(cm)。

c、蒸發速率.蒸發速率小時,沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時,吸附原子的動能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時,則沒有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無定形態薄膜.