自動磁控濺射鍍膜機工作原理值得信賴

磁控濺射鍍膜機

銦錫氧化物( Indium Tin Oxide ,簡稱ITO) 薄膜是一種用途廣泛的透明導電材料,已成熟的應用于電機車擋風玻璃、液晶顯示器件、太陽能電池、全息照相和液晶彩色電視等,蓄勢待發的應用領域為有機發光二極管顯示器(Organic Light-Emitting Diode ,簡稱OLED) 。從應用角度出發,通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ,薄膜中銦錫低價化合物愈少愈好。真空鍍膜機利用這種濺射方法在基體上沉積薄膜是1877年問世的。ITO 薄膜的制備方法很多,如噴涂、蒸發、射頻濺射和磁控濺射等。隨著液晶顯示器技術向高精細化和大型化發展,磁控濺射法備受歡迎。

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磁控濺射原理

濺射過程即為入射離子通過--系列碰撞進行能量和動量交換的過程。

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與Ar原子發生碰撞，電離出大量的Ar離子和電子，電子飛向基片，在此過程中不斷和Ar原子碰撞，產生更多的Ar離子和電子。從應用角度出發,通常要求ITO薄膜的成份是In2O3和SnO2,薄膜中銦錫低價化合物愈少愈好。Ar離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

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磁控濺射

磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。