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將納米氮化鈦添加到TiN/Al2O3復相納米陶瓷中，通過各種方法（如機械混合法）等將其混合均勻，得到的這種含有納米氮化鈦顆粒的陶瓷材料內(nèi)部便形成導電網(wǎng)絡。這種材料可作為電子元件應用于半導體工業(yè)中。

（6）在鎂碳磚中添加一定量的TiN，能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。

（7）氮化鈦是一種優(yōu)良的結構材料，可用于噴汽推進器以及火箭等。在軸承和密封環(huán)領域也多用氮化鈦合金，凸顯了氮化鈦優(yōu)異的應用效果。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

PVD涂層與傳統(tǒng)化學電鍍（水電鍍）之間的異同之處在于，PVD涂層與傳統(tǒng)化學電鍍之間的相似點和差異相似，兩者均屬于表面處理類別，一種材料以某種方式被另一種表面覆蓋。PVD涂層技術是當前主要的應用行業(yè)，PVD涂層技術的應用主要分為兩類：裝飾性涂層和工具涂層。電鍍工具的目的是提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦因數(shù)，并增加工件的使用壽命，這方面主要用于各種切削工具，車刀（例如車刀，刨床，銑刀），鉆頭等，各種五金工具（例如螺絲刀，鉗子等），各種模具和其他產(chǎn)品。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

殘余氣體分子撞擊著真空室內(nèi)的所有表面，包括正在生長著的膜層表面。在室溫和10-4Pa壓力下的空氣環(huán)境中，形成單一分子層吸附所需的時間只有2.2s?？梢?，在蒸發(fā)鍍膜過程中，如果要獲得高純度的膜層，必須使膜材原子或分子到達基片上的速率大于殘余氣體到達基片上的速率，只有這樣才能制備出純度好的膜層。這一點對于活性金屬材料基片更為重要，因為這些金屬材料的清潔表面的粘著系數(shù)均接近于1。在10-2Pa～10-4Pa壓力下蒸發(fā)時，膜材蒸汽分子與殘余氣體分子到達基片上的數(shù)量大致相等，這必將影響制備的膜層質(zhì)量。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

膜強度的不良（膜弱）主要表現(xiàn)為：①擦拭或用專用膠帶拉撕，產(chǎn)生成片脫落；

②擦拭或用專用膠帶拉撕，產(chǎn)生點狀脫落；

③水煮15分鐘后用專用膠帶拉撕產(chǎn)生點狀或片狀脫落；

④用專用橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產(chǎn)生；

⑤膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細道子。

改善思路：基片與膜層的結合是首要考慮的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜應力。膜強度不良的產(chǎn)生原因及對策：①基片與膜層的結合。一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。由于基片表面在光學冷加工及清洗過程中不可避免地會有一些有害雜質(zhì)附著在表面上，而基片的表面由于光學冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質(zhì) 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制