永州手機配件IP電鍍表面處理信息推薦「瑞泓科技」

堿類物質(zhì)。堿類助洗劑常用的為氫氧化吶、純堿、硅酸鈉和三聚磷酸鈉。氫氧化吶和純堿作為堿劑，價格為便宜，廢水較難處理，有時因為堿性偏強導(dǎo)致清洗物體受到損傷，另一方面氫氧化吶和純堿沒有乳化作用對于礦物油清洗沒有任何效果；硅酸鈉與三聚磷酸鈉既能提供堿性，又能提供一定的乳化力，廣泛的用于各種除油清洗劑中特別是對堿敏感的除油工藝。使用硅酸鈉大的缺陷是除油后若不用熱水先洗一道，直接冷水洗很難將殘留的硅酸鈉完全洗凈，殘留的硅酸鈉會與下一道工序的酸反應(yīng)生成附著牢固的硅膠，從而影響鍍層的結(jié)合力；三聚磷酸鈉則主要存在磷污染破壞環(huán)境的擔憂。

（1）時間短：一般在60秒—200秒可以把工件上的各種化學油除凈。

（2）操作簡單：不用加溫（四季按常溫），直接按比例配自來水即可使用。

（3）環(huán)保產(chǎn)品：無毒、無氣味，不腐蝕底材，符合歐盟ROHS指令。

（4）省掉工序：除油一次，本產(chǎn)品在除油同時可以把工件表面上的氧化膜和一 些雜質(zhì)除去，起到拋光的作用，電鍍時出光快。

（5）消耗：只是帶水消耗，內(nèi)部成份基本不會發(fā)生變化，使用,補充也只是按比列配水添加至水位即可，（6）適用范圍廣：如鐵、銅、鋅合金、釬錫合金、鋁等各種底材都能達到其效果。

（7）本品是偏弱堿性，PH值在9.5左右。

濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。靶坯屬于濺射靶材的中心部分，是高速離子束流轟擊的目標材料。靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機臺環(huán)境內(nèi)完成濺射過程。超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。