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發布時間:2021-07-27 17:30  
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國內外研究人員一直致力于開發取代電鍍的表面防護技術的研究,物理氣相沉積(PVD)技術作為一種環境友好技術,具有很多其他技術所不具備的特點,通過控制其工藝參數可以得到晶粒細小、厚度均勻、膜基結合力優異的鍍層;同時由于PVD是一種干法鍍技術,可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質溶液殘留在磁體孔隙內和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。然而,PVD表面處理受批量生產成本和某些因素的限制,現在并沒有大規模生產應用。3、依托政府支持,大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作,使得新品能迅速推向市場。
鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,分子束外延,激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。
有機高分子鍍膜設備銷售鍍膜設備種類復雜,只需要按照大的工藝分常有的,比如蒸發、磁控濺射、離子等PVD鍍膜技術,按沒個鍍膜加工企業要求不同又需要配置不同的設備和程序。
真空鍍膜設備的多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表面處理的缺陷,而且各項技術指標優于傳統工藝,廣泛應用于五金加工、機械設備、化工、模具制造、電子產品、儀器等領域。