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鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

      人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

1. 真空

在空間內(nèi)，低于環(huán)境大氣壓力的氣體狀態(tài)。

2. 真空度

表示真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度，通常用壓力值來表示。

3. 真空區(qū)域劃分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

極高真空 <10-9Pa

4. 全壓力

混合氣體中所有組分壓力的綜合。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空濺射鍍膜根據(jù)濺射現(xiàn)象以上，濺射是用荷能離子轟擊固態(tài)表面，造成固態(tài)表面原子逸出的狀況。濺射是出射粒子將動能傳送給固態(tài)表面，固態(tài)表面原子因消化吸收動能而揮發(fā)出去的全過程。

真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。平常我們還應(yīng)當(dāng)注意以下幾點(diǎn)：

1、真空鍍膜設(shè)備使用一段時(shí)間后，必須要對設(shè)備進(jìn)行清潔維護(hù)；

2、保證設(shè)施設(shè)備及操作環(huán)境清潔。如材料、樣品放置地環(huán)境要求，環(huán)境溫度濕度要求等；

3、降低真空鍍膜設(shè)備室內(nèi)空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。

真空鍍膜設(shè)備如何操作？

真空鍍膜設(shè)備操作程序具體操作時(shí)請參照該設(shè)備說明書和真空鍍膜機(jī)上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。

檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。

低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

把薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

啟動真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。