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化學清洗原理化學清洗是利用無機酸與灰垢發(fā)生化學反應

生成可溶性的鹽而將灰垢清理的一種技術(shù)。在化學反應中產(chǎn)生的CO2氣體可對灰垢產(chǎn)生剝離作用，使部分灰垢脫落而被清洗液帶出管外。但是CO2氣體也會聚積于輸灰管道的高點或管道的上部，形成氣阻，造成酸洗液與管頂灰垢隔離，使管內(nèi)的灰垢不能充分與酸洗液接觸發(fā)生反應。致使管道底部灰垢已干凈，管道頂部還有大量余垢未清洗掉，可能產(chǎn)生管道頂垢塌落，造成堵管等事故。為防止此情況的發(fā)生，在清洗時需在管道頂部加些排氣裝置及時排氣。

酸與灰垢的反應如下：

CaCO3＋2H =Ca2 H2O CO2↑

針對火電廠輸灰管道化學清洗工藝中存在的問題——酸對金屬的腐蝕及在酸洗過程中產(chǎn)生氣阻造成灰垢塌落甚至堵管的危害，已有廠家研制出了新的藥劑。為酸洗工藝過程中減少腐蝕和危害，提高酸的利用率提供了保障。如清洗時為抑制酸洗液對管道的腐蝕，在酸洗液中添加緩蝕劑。為防止反應產(chǎn)生的二氧化碳聚積在管內(nèi)產(chǎn)生氣阻，使灰垢不能與酸洗液充分反應，在酸洗液中加入一定量的清洗助劑。

工業(yè)設備如何清洗?工業(yè)設備清洗方法

工業(yè)清洗是物體表面受到物理、化學或生物的作用而形成的污染層或覆蓋層稱作污垢，去除這些污染物或覆蓋層而使其恢復原表面狀況的過程稱為清洗。

工業(yè)設備清洗方法

物理清洗和化學清洗

1.物理清洗是利用力學、聲學、光學、電學、熱學的原理，依靠外來能的作用，如機械摩擦、超聲波、負壓、高壓、沖擊、紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢而不改變污類組分的清洗方法。即不改變原來的化學分子組分的方法。

①機械清洗法：清掃器和清理法、鉆管清洗法、噴丸清洗法。

②水力清洗法：低壓水力清洗(低壓清洗的壓力為196-686千帕，大約2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa)。

③高壓水力清洗：高壓清洗的壓力為4900千帕，大約50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機。

EDTA二鈉鹽清洗工藝 用核算用量的去離子水制造EDTA二鈉鹽溶液

用NaOH調(diào)度pH至5．2左右，加熱到90℃以上送入鍋爐，熄滅加熱鍋爐，使清洗液溫度達135～140℃，每15～20min取樣，剖析EDTA、Fe2’、Fe3’離子濃度及pH值。普通經(jīng)4～5h清洗，清洗液pH值可達8～8．5。此刻，F(xiàn)e3’離子濃度不再升高，即可以為清洗完畢，而且金屬外表已進入鈍態(tài)。放出的清洗液中的EDTA能夠收回。 EDTA二鈉鹽合適于鏟除高含量的低價鐵的氧化物垢。假定垢中鐵的氧化物含量低于65％，則不如改用其他清洗辦法作用更好。假定垢中二氧化硅的含量逾越5％，它的清洗作用會顯著降落。若垢中銅含量高于5％，則應在清洗氧化鐵之后，加1％～1．5％的氯水和O．2％的過硫酸銨除銅，或用ACR法除銅。

4.3鹽酸與的混酸清洗

當水垢中含有碳酸鈣垢、鐵垢及二氧化硅時，不能總用清洗，由于會發(fā)作難溶的氟化鈣而影響清洗。當水垢中二氧化硅的含量很小時，可單獨用鹽酸鏟除上述污垢。但當二氧化硅含量大于10％時，單獨用鹽酸清洗就難以收效，此刻可運用鹽酸和的混酸來去除含硅的水垢。在運用鹽酸和的混酸清洗時，普通控制總酸濃度在10％左右， HCI：HF=8：2，在30～40℃下清洗。普通，當Si02含量在10％左右，HF的濃度為1％；Si02含量在15％時，HF的濃度應為2％；當Si02含量大于20％時，HF的濃度應為3％。酸洗時添加緩蝕劑，酸洗后要停止水沖刷和鈍化。

鍋爐化學清洗常用的藥劑

1． 堿洗劑 鍋爐堿洗運用的堿有磷酸三鈉、、碳酸鈉等，有時為添加除油作用，恰當參與低泡型外表活性劑，如OP-15。

2.酸洗劑 酸洗是鏟除鍋爐銹垢和水垢的關(guān)鍵進程，是整個清洗工藝的中心。運用的酸洗劑包含鹽酸、、等無機酸和、檸檬酸、甲酸、、羥基等有機酸。其間鹽酸是鍋爐清洗的酸。

3．配(絡)合劑 大容量電站鍋爐的污垢首要是鐵的氧化物，這些氧化物既有隨水帶人鍋爐的，也有鍋爐工作中本身腐蝕發(fā)作的。這類污垢合適用協(xié)作劑清洗。常用的協(xié)作劑有檸檬酸、、EDTA二鈉鹽和二胺鹽。

4。 鈍化劑 經(jīng)酸洗的金屬外表處于活化狀況，需求在外表構(gòu)成一層鈍化膜加以維護，因而鍋爐在清洗后投用之前要停止鈍化處置。常用的鈍化劑有NaN02、Na3P04、H202、N2H4等。 5。其他藥劑 鍋爐酸洗時，應加人緩蝕劑，以按捺金屬的腐蝕。

2．鍋爐化學清洗的普通進程

普通鍋爐清洗進程為：水沖刷(檢漏)一>堿洗一>水沖刷斗酸洗一>水沖刷一>漂洗一>鈍化。

2.1水沖刷(檢漏)

利

用大流量的水將鍋爐清洗系統(tǒng)內(nèi)的塵土，疏松墜落的污垢沖出系統(tǒng)外。普通選用高位，低位排放的辦法。必要時也可循環(huán)沖刷。水沖刷完畢后，堅持系統(tǒng)滿水

位，檢查暫時管線的焊縫、法蘭、閥門和鍋爐本體的管線、閥門等有無走漏，并對漏點停止處置。檢漏后，繼續(xù)堅持滿水位，對水停止加熱。中小型鍋爐可選用爐膛

熄滅的辦法加熱，使爐內(nèi)水抵達預定溫度。如有其他鍋爐能夠供給清洗系統(tǒng)滿足的蒸汽量時，能夠用蒸汽加熱暫時系統(tǒng)中的水箱；經(jīng)過水循環(huán)使爐內(nèi)水升溫。不論采

用何種加熱辦法，在加熱進程中應不斷堅持清洗系統(tǒng)的循環(huán)。