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平面研磨機(jī)的保養(yǎng)要點如今

平面研磨機(jī)的保養(yǎng)要點 如今平面研磨機(jī)加工技術(shù)已經(jīng)得到越來越廣泛的應(yīng)用，超精密磨削的發(fā)展促進(jìn)了機(jī)械、模具、液壓、電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、傳感器、測量技術(shù)的發(fā)展。于是，為滿足這些行業(yè)的研磨加工需求，就產(chǎn)生了單面研磨拋光機(jī)、雙面研磨拋光機(jī)、鏡面拋光機(jī)等。 不過我們得說再好的研磨設(shè)備都離不開日常的保養(yǎng)，保養(yǎng)到位可以提高研磨加工的效率，同時還能延長其使用壽命。在平面研磨機(jī)的保養(yǎng)守則中，首軸精度方面要加強保養(yǎng)，加工進(jìn)刀時的進(jìn)刀量不要超過0.3MM。研磨加工完畢后，要定時清理卡在床臺上的砂輪掉砂及磨削后的鐵屑。另外，不要忽視滑軌、電機(jī)系統(tǒng)的日常檢查和保養(yǎng)維護(hù)。

平面研磨機(jī)研磨加工的步驟流程介紹

平面研磨機(jī)研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進(jìn)行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達(dá)IT5～I(xiàn)T01，表面粗糙度可達(dá)Ra0.63～0.01微米。平面研磨機(jī)廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關(guān)于平面研磨機(jī)加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進(jìn)行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達(dá)IT5～01，表面粗糙度可達(dá)R0.63～0.01微米。 2、平面研磨機(jī)研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機(jī)進(jìn)行研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩(wěn)；④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。粗研的壓力不超過0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

研磨拋光中冷卻研磨盤有什么意義

研磨拋光中冷卻研磨盤有什么意義 從事平面研磨加工的朋友都知道在超精密研磨拋光較薄脆零件過程中，研磨盤和工件是做相對摩擦運動的，研磨盤與工件的局部接觸區(qū)域往往會出現(xiàn)高溫，有時甚至可以達(dá)到幾百度。局部的高溫不但會零件表面，形成加工變質(zhì)層，而且會引起零件的局部變形，同時，平面研磨機(jī)局部高溫區(qū)的熱量還會以熱傳導(dǎo)的方式傳到整個研磨盤，使研磨盤也會發(fā)生熱變形，研磨盤作為研磨加工的磨具，其面型精度能在一定程度上“”到工件表面。 因此，平面研磨機(jī)在進(jìn)行研磨拋光過程東研磨盤自身的熱變形對工件的面型精度一定會有影響。而且研磨盤溫度越高，越不均勻，工件所受的變形影響越大。因此及時地將局部研磨盤高溫區(qū)的熱量驅(qū)散，合研磨盤各部分的溫度比較均勻且處于較低的水平是非常的必要的。