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              磁控濺射鍍膜設備價格常用解決方案 沈陽鵬程有限公司

              發(fā)布時間:2021-10-16 15:58  

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              小型自動磁控濺射儀

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

              1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa

              2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S

              3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa;

              4. 系統(tǒng)停泵關機12小時后真空度:≤5Pa

              5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結(jié)構,尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構,弧焊接,表面進行電化學拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

              6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

              7. 旋轉(zhuǎn)基片臺 1套,樣品臺可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度:室溫—500°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示

              8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

              9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;

              10. 抽氣機組及閥門、管道 1套,包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國普發(fā)Hipace700分子泵);1臺機械泵(4L/S) ,1臺DN40氣動截止閥,機械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動閘板閥1臺(用于復合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺,DN40旁抽氣閥1臺,壓差式充氣閥1臺;一般磁控濺射選的是耐溫120度或者150度的即便如此溫度也不宜太高通常冷卻水溫度不宜高過40度,這樣就不會出現(xiàn)磁鐵損壞、導致涂層不均勻、電壓升高、沉積速率降低等問題。管道采用不銹鋼三通及波紋管,

              11. 安裝機臺架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動。



              磁控濺射介紹

              以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,今天我們來分享磁控濺射產(chǎn)品的相關內(nèi)容,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助!

              用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體(如陶瓷),則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容,這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規(guī)模采用。為解決此問題,發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氣和反應氣體如氮氣或氧氣。特別是透明導電玻璃廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。



              磁控濺射鍍膜機的工作原理是什么?

              磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與原子發(fā)生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用( E X B drift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運動。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在,具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。磁力線分布方向不同會對成膜有很大關系。在E X B shift機理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗,專注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn),先進的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設備和技術,建立了嚴格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話!!!



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