磁控濺射鍍膜機-北京創世威納(圖)

磁控濺射鍍膜機

目前認為濺射現象是彈性碰撞的直接結果，濺射完全是動能的交換過程。當正離子轟擊陰極靶，入射離子當初撞擊靶表面上的原子時，產生彈性碰撞，它直接將其動能傳遞給靶表面上的某個原子或分子，該表面原子獲得動能再向靶內部原子傳遞，磁控濺射鍍膜機，經過一系列的級聯碰撞過程，當其中某一個原子或分子獲得指向靶表面外的動量，并且具有了克服表面勢壘(結合能)的能量，它就可以脫離附近其它原子或分子的束縛，逸出靶面而成為濺射原子。

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磁控濺射鍍膜的特點

1、靶材粒子能量高（比熱蒸發高出1個數量級），所制備膜層更致密，與石英片結合力更高：

2、一般備有輔助離子源，可以用來清洗石英片，清洗效果好；

3、易于制備熔點高的材料；

4、制備合金膜層，可以保證膜層材料比例與靶材相同；

5、由于裝有中和器，也可以用來制備絕緣膜層。

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濺射鍍膜機濺射鍍技術優點

濺射鍍膜機濺射鍍技術應用  蒸發和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機的一切優點，   又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現自動生產線，是替代傳統濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。本機鍍部分產品可不做底油。本機主 要特點配用改進型高真空排氣系統，抽速快、、節電、降噪和延長泵使用壽命;實現蒸發、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠。

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磁控濺射鍍膜機-北京創世威納(圖)由北京創世威納科技有限公司提供。北京創世威納科技有限公司是北京 昌平區 ,電子、電工產品制造設備的企業，多年來，公司貫徹執行科學管理、創新發展、誠實守信的方針，滿足客戶需求。在創世威納領導攜全體員工熱情歡迎各界人士垂詢洽談，共創創世威納更加美好的未來。