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發布時間:2021-10-22 06:51  
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相比MoO3,加入鉬質量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍,比基體的低約1個數量級。故加入Na2MoO4的價比更高。
此外,這2種添加劑的加入,均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層,起顯色作用的物質是MoO2。
時間對微弧氧化封孔膜層增厚的影響
在其他工藝參數相同的情況下,不同封閉時間對陶瓷膜膜層增厚的影響。封閉時間較短時,膜層增厚較少;隨著時間的延長,膜層逐漸增厚;但是封閉時間過長,如封閉時間超過60min后,膜層增厚并不顯著,而且有下降的趨勢。
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電鍍和陽極氧化有什么區別?
處理對象不同:
電鍍方法處理的對象主要是金屬,也可以是非金屬。常使用的電鍍鍍層金屬為鎳、鉻、錫、銅、銀及金等。也就是經常說的鍍鎳、鍍鉻、鍍金等。
陽極氧化處理則是金屬表面處理的方法。大多數金屬材料(如不銹鋼、鋅合金、鋁合金、鎂合金、銅合金、鈦合金)都可以在適宜的電解液中進行陽極氧化處理。
微弧氧化的步驟
一、陽極氧化階段
將樣品置于一定的電解液中,通電后,樣品外表和陰極外表呈現無數細小的平均的白色氣泡,而且隨電壓升高,氣泡逐步變大變密,生成速率也不時加快。在到達擊穿電壓之前,這種現象不斷存在,這一階段就是陽極氧化階段。
二、火花放電階段
當施加到樣品的電壓到達擊穿電壓時,樣品外表開端呈現無數細小、亮度較低的火花點。這些火花點密度不高,無爆鳴聲。在該階段,樣品外表開端構成陶瓷層,但陶瓷層的生長速率很小,硬度和致密度較低,所以應盡量減少這一階段的時間。