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發(fā)布時(shí)間：2020-12-14 06:21
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離子束刻蝕
離子束刻蝕以離子束為刻蝕手段達(dá)到刻蝕目的的技術(shù)，其分辨率限制于粒子進(jìn)入基底以及離子能量耗盡過程的路徑范圍。離子束較小直徑約10nm，離子束刻蝕的結(jié)構(gòu)較小可能不會(huì)小于10nm。目前聚焦離子束刻蝕的束斑可達(dá)100nm以下，較以較快的直寫速度進(jìn)行小于50nm的刻蝕，故而聚焦離子束刻蝕是納米加工的一種理想方法。此外聚焦離子束技術(shù)的另一優(yōu)點(diǎn)是在計(jì)算機(jī)控制下的無掩膜注入，甚至無顯影刻蝕，直接制造各種納米器件結(jié)構(gòu)。但是，在離子束加工過程中，損傷問題比較突出，且離子束加工精度還不容易控制，控制精度也不夠高。
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離子束刻蝕機(jī)
石英晶體諧振器制作
石英晶體的諧振頻率與其厚度有關(guān)。用機(jī)械研磨和拋光致薄的晶體，可制作低頻器件，但頻率超過20MHz時(shí)， 上述工藝已不適用因?yàn)闃O薄的晶片已不能承受機(jī)械應(yīng)力。采用離子束拋光，可以不受此限制。石英晶體諧振器的金屬引線要求重量輕、低電阻，通常用鋁沉積在晶體表面溝槽中，以高電導(dǎo)率鋁作引線電極。用離子束濺射加工晶體_上的溝槽是有效的方法。
加速1器從離子源獲得的離子束的能量一般從幾百電子伏到幾萬電子伏。因?yàn)橛酶咭鲭妷悍绞将@得較高能量的離子束受到擊穿的限制，所以必須使離子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)中加速,這類裝置叫做加1速器(見粒子加1速器)使用各種加1速器可以使離子獲得很高的能量（如幾百吉電子伏），也可以使離子減速，以獲得能量較低的（如幾十電子伏）但流強(qiáng)很高的離子束。
