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              發布時間:2020-12-19 05:30  

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              物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。

              真空蒸鍍:在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發,然后凝結在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。

              濺射:濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材(陰極),使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉積的過程。

              離子鍍:離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發離子化,并在這些荷能離子轟擊基體(工件)表面并同時沉積在其上形成鍍膜。


              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響

              靶基距:靶基距是影響成膜速率的重要因素之一,隨著靶基距增加,被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數增多,同時等離子體密度也減弱,動能減少,沉積速率降低,但膜層外觀較好。靶基距太小,沉積太快,工件溫升大,膜層外觀差。

              靶功率;下面說一下陰極真空磁控濺射法,通過磁控濺射,在優質浮法玻璃的表面鍍一層或多層金屬、或金屬化合物薄膜。磁控濺射本身粒子初始動能比較小,離化率低,電源功率越大,濺射出的粒子的初始能量越大,靶材濺射量也越大,沉積速率越快,膜層容易上厚度和硬度,同時工件溫升也大,過高的功率會使沉積速率太快,粒子來不及表面遷移和擴散,易形成陰影效應,膜層會比較疏松,應力較大。



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              利用電阻加熱器加熱蒸發的優點:鍍膜機構造簡單,造價便宜、使用可靠,可用于熔點不太高的材料的蒸發鍍膜,尤其適用于對膜層質量要求不太高的大批量的生產中。電阻加熱方式的缺點是:加熱所能達到的z高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國內外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器。比如含有j基(Me化學式-CH3)的化合物,因成分中含有碳氫基團,都屬于有機類物質。


              電子束蒸發源的優點為:①電子束轟擊熱源的束流密度高,能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度。可以使高熔點(可高達3000°C以上)材料蒸發,并且能有較高的蒸發速度;②由于被蒸發材料是置于水冷堆鍋內,因而可避免容器材料的蒸發,以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應,這對提高鍍膜的純度極為重要;利用紅外線光譜吸收分析法,可以了解各種鍍膜原料的內部化學成分,這是區別真假無機質鍍膜產品的重要科學依據。③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面,因而熱,熱傳導和熱輻射的損失少。



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