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發布時間：2021-09-06 22:52
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鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數
1. 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm
2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）
3. 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶體管固態射頻發生器，小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
6. 自動匹配調節
7. 全組裝式炬管，降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能
9. 實驗數據穩定性良好：重復性
RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD
≤2.0%（大于3小時）
Plasma 2000 技術特點
1. 優異的光學系統
2. 固態有效射頻發生器，體積更加小巧
3. 流程自動化，狀態監控及自動保護
4. 科研級檢測器，極高的紫外量化效率
5. 強大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強大
9. 智能譜圖標定
10. 智能干擾矯正
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鋼研納克擬負責起草ICP-AES國家標準
鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發射光譜儀》國家標準
儀器信息網訊 2014年10月28日，國家標準委決定發布通知對2014年第二批擬立項國家標準項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業聯合會，歸口單位為國工業過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。
《電感耦合等離子體發射光譜儀》標準將規定電感耦合等離子體原子發射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規則、標志、包裝、運輸和貯存。
據介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產制造規范性，使儀器性能穩定;通過規范生產提高ICP光譜儀生產企業準入門檻，形成具有競爭力的企業。從而縮小國產儀器同國外儀器的性能差距，提高國產ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產業發展具有重要和積極的意義。
項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發生產電感耦合等離子體發射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。
鋼研納克“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目順利通過驗收
2016年4月12日，北京市科學技術會在鋼研納克永豐產業基地主持召開了國家重大科學儀器設備開發專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目(項目編號2011YQ140147)初步驗收會議。
本次初步驗收會由李建玲處長主持，會議成立了項目初步驗收技術組，金國藩院士作為組組長。組聽取了項目及各承擔單位的匯報，審閱了相關資料，進行了現場檢查，經質詢和討論，終形成了驗收評審意見。
和一致認為項目驗收材料齊全、規范，符合驗收要求。項目成功開發出具有自主知識產權的ICP全譜光譜儀、ICP質譜儀兩種痕量分析儀器整機，實現推廣應用;攻克了ICP射頻源、四極桿射頻源、激光燒蝕固體直接進樣系統、多位自動進樣裝置、基于中階梯光柵和大面積CCD采集的高分辨二維分光系統、碰撞反應池、中階梯光柵刻劃、四極桿等關鍵部件、關鍵技術及核心元器件技術和工藝難題;針對國內用戶的普遍特點和特殊需求，在儀器中集成了多功能開放性軟件、譜線和分析方法數據庫，提升國產分析儀器的國際競爭力。項目執行期內共完成了分析方法、應用、對比報告51篇，形成行業標準8項，38項(其中授權19項)，軟件著作權4項，發表65篇。項目預期目標全部實現。
在工程化和產業化方面，項目牽頭單位已經在永豐建成ICP光譜儀、ICP質譜儀產業基地，將可靠性管理的理論、工具、方法和裝備應用于分析儀器開發的全流程，建立了完整的質量管理體系，建設了ICP射頻源、激光燒蝕進樣系統、ICP全譜光譜儀、ICP質譜儀4條生產線。ICP全譜光譜儀已經獲得生產許可證書，產品已經銷售至寧夏、浙江、山東、新疆、湖南、河南及國外(伊朗)等地，產品經過安裝和調試，均順利通過驗收。
