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              浙江ICP光譜分析儀價格在線咨詢 鋼研納克

              發布時間:2021-09-14 21:27  

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              鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點

              1.   分析流程全自動化控制,實現軟件點火、氣路智能控制功能;

              2.   輸出功率自動匹配調諧,功率參數程序設定;      

              3.   優良的光學系統,先進的控制系統,保證峰位定位準確,信背比優良;

              4.   較小的基體效應;      

              5.   測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態線性范圍5—6個數量級;

              6.   檢出限低,大多數元素的檢出限可達ppb級;

              7.   良好的測量精度,穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優于國家A等級標準(JJG768-2005);

              8.  

              Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩定性小于0.1%;

              9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調,可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;

              10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;

              11. 精度較高的光室恒溫系統,保證儀器優良的長短期精度;

              12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩定;

              13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規定小于10V/m)。

              14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。

              15. 人性化的軟件設計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數據處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數據處理功能強大,提供了多種方法,如內標校正、IECS和QC監測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。




              鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

              1.   光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

              2.   光室恒溫:(30±0.2)℃      

              3.   光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵

              4.   分辨率:不大于0.007nm  

              5.   刻線密度:3600g/mm          

              6.   高頻發生器震蕩頻率:40.68MHz   功率穩定度:0.1%(長期25℃典型值)

              7.   震蕩類型:自激式        

              8.   進樣方式:蠕動泵進樣

              配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室)

              9.   霧1化器:同心霧化1器

              10. 重復性:RSD ≤1.0%

              11. 穩定性:RSD ≤2.0%(2小時)

              12. 冷卻氣:10-20L/min

              13. 輔助氣:0-1.5 L/min

              14. 載氣:0.4-1L/min

              15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)

              16. 重量:240公斤




              鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

              Plasma2000電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發專項”支持下研發的二維全譜高分辨ICP光譜儀,是國產全譜ICP光譜儀革命性產品,曾斬獲中國儀器儀表行業協會“自主金獎”等一系列榮譽,在業界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業設計,優異穩定的測試性能源于納克近四十年ICP行業經驗。Plasma2000擁有

              1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,徑向觀測,具有穩健的檢測能力。

              2、 有效穩定的自激式固態射頻發生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運行及優異的長期穩定性。

              3、 高速面陣CCD采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現“全譜直讀”。

              4、 功能強大的軟件系統,簡化分析方法的開發過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

              可廣泛應用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。



              Plasma 2000型ICP-OES測定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅

              鋼研納克

              隨著城市污水處理量的增加,處理過程中產生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機物,還含有很多難以降解的金屬元素,如果處理不當會造成更為嚴重的二次污染。因此對污泥中金屬元素含量的監測尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法,使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發射光譜儀,建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測量方法,加標回收率在93.4% - 106.6%之間,方法可靠,適用于污泥中金屬元素的測定。

              實驗過程

              1

              儀器特點

              觀測方式:徑向觀測

              分光系統:中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,全譜瞬態直讀

              檢測器:大面積背照式CCD芯片,高紫外檢出效率,寬動態范圍

              光源:固態射頻發生器,小體積

              2

              儀器參數

              表1 Plasma 2000工作條件

              3

              實驗方法

              稱取一定量污泥樣品,加入一定比例的混酸,使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出,定容至100mL容量瓶待測。

              4

              分析譜線

              表2 Plasma 2000譜線選擇(nm)

              5

              標準曲線

              Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標準溶液(國家鋼鐵材料測試中心,1000 μg/mL)配制曲線濃度如表3 ,線性相關系數大于0.999。

              表3 標準曲線濃度(μg/mL)

              6

              測定結果

              在實際樣品中加入被測元素,其加標回收率93.4%-106.6%為之間,滿足定量要求。

              表4 實際樣品分析結果(%)

              結論

              本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發射光譜儀測定污水處理廠中污泥中重金屬元素,加標回收率介于93.4%-106.6%之間,適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測。