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發布時間:2020-12-31 07:24  
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光刻膠的分類
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硅片制造中,光刻膠的目的主要有兩個:(1)將掩模版圖形轉移到硅片表面頂層的光刻膠中;(2)在后續工藝中,保護下面的材料(例如刻蝕或離子注入阻擋層)。
分類
光刻膠的技術復雜,品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理,可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經光照后變成可溶物質的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與負性膠顯影工藝對比結果示意圖 [2] 。
正性光刻膠的結構
光學光刻膠通常包含以下三種成分:(1)聚合物材料(也稱為樹脂)。聚合物材料在光的輻照下不發生化學反應,其主要作用是保證光刻膠薄膜的附著性和抗腐蝕性,同時也決定著光刻膠薄膜的其他一些特性(如光刻膠的膜厚要求、彈性要求和熱穩定性要求等)。(2)感光材料。感光材料一般為復合性物質(簡稱PAC或感光劑)。感光劑在受光輻照之后會發生化學反應。正膠的感光劑在未曝光區域起抑制溶解的作用,可以減慢光刻膠在顯影液中的溶解速度。以正性膠為例,使用g射線和i射線光刻中的正性膠是由重氮醌(簡稱為DQ)感光劑和酚樹脂構成。(3)溶劑(如丙二醇-,PGME)。溶劑的作用是使光刻膠在涂覆到硅片表面之前保持為液態
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硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?
注意事項:
①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠;
②看光刻機型式,若是投影方式,用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題
③負性膠價格成本低,正性膠較貴;
④工藝方面:負性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽;
⑤健康方面:負性膠為有機溶液處理,不利于環境;正性膠屬于水溶液,對健康、環境無害。
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光刻膠的應用
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展,更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。
期望大家在選購光刻膠時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!!!