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發(fā)布時(shí)間:2021-08-01 21:30  
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光刻膠介紹
光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高。
從技術(shù)水平來(lái)看,在PCB領(lǐng)域,國(guó)產(chǎn)光刻膠具備了一定的技術(shù)和量產(chǎn)能力,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)對(duì)主流廠商大批量供貨。
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光刻膠市場(chǎng)空間與半導(dǎo)體的分不開(kāi)。2012-2018年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模復(fù)合增速8.23%,在全球半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展下,全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)持續(xù)增長(zhǎng)。
而國(guó)內(nèi)市場(chǎng),因全球半導(dǎo)體、液晶面板以及消費(fèi)電子等產(chǎn)業(yè)向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移,對(duì)光刻膠需求量迅速增量。
但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠,從全球光刻膠的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局來(lái)看,光刻膠市場(chǎng)主要由日韓企業(yè)主導(dǎo),國(guó)內(nèi)企業(yè)市場(chǎng)份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術(shù)壁壘的LCD 和半導(dǎo)體光刻膠主要依賴進(jìn)口。根據(jù)某些數(shù)據(jù)顯示,國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中,PCB光刻膠的占比高達(dá)95%,半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠產(chǎn)值占比都僅有2%。
由上分析可知,我國(guó)目前在光刻膠領(lǐng)域急需技術(shù)突破的。
光刻是整個(gè)集成電路制造過(guò)程中耗時(shí)長(zhǎng)、難度大的工藝,耗時(shí)占IC制造50%左右,成本約占IC生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過(guò)程重要的耗材,光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻工藝有著重要影響。
光刻是將圖形由掩膜版上轉(zhuǎn)移到硅片上,為后續(xù)的刻蝕步驟作準(zhǔn)備。在光刻過(guò)程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經(jīng)紫外線曝光后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在通過(guò)顯影后,被曝光的光刻膠將被去除,從而實(shí)現(xiàn)將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上。再經(jīng)過(guò)刻蝕過(guò)程,實(shí)現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。在刻蝕過(guò)程中,光刻膠起防腐蝕的保護(hù)作用。
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光刻膠分類
根據(jù)化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負(fù)性膠和正性膠。對(duì)某些溶劑可溶,但經(jīng)曝光后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠;反之,對(duì)某些溶劑不可溶,經(jīng)曝光后變成可溶的為正性膠。
從需求端來(lái)看,光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高。
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