<em id="b06jl"></em>
      <tfoot id="b06jl"></tfoot>
      <tt id="b06jl"></tt>

        1. <style id="b06jl"></style>

              狠狠干奇米,国产igao,亚卅AV,污污内射在线观看一区二区少妇,丝袜美腿亚洲综合,日日撸日日干,91色鬼,夜夜国自一区
              您好,歡迎來到易龍商務(wù)網(wǎng)!

              重慶四氟化碳氣體價格-種類齊全,安徽譜純

              發(fā)布時間:2020-12-06 09:22  

              【廣告】







              由碳與氟反應(yīng),或一氧4化碳與氟反應(yīng),或碳化硅與氟反應(yīng),或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng),或二氟二氯甲4烷與氟4化氫反應(yīng),或四氯4化碳與氟化銀反應(yīng),或四氯4化碳與氟化4氫反應(yīng),都能生成四氟化碳。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-O2反應(yīng)離子刻蝕時,通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。








              四氟化碳的密度比較高,可以填滿地面空間范圍,在不通風的地方會導致窒息。四氟化碳成品應(yīng)存放在陰涼,干燥,通風的庫房內(nèi),嚴禁曝曬,遠離熱源。四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。







              四氟化碳的熱穩(wěn)定性更好?;衔锏臒岱€(wěn)定性主要與化學鍵的鍵能及鍵長有關(guān)。零下198 °C時,四氟化碳具有單斜的結(jié)構(gòu),晶格常數(shù)為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。四氟化碳的溶氧性很好,因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功,在275米到366米的深度內(nèi),小白鼠仍可安全脫險。四氟化碳在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應(yīng),僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產(chǎn)生有毒氟化物。