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              NR74g 3000PY光刻膠公司量大從優(yōu)【賽米萊德】

              發(fā)布時間:2020-12-19 08:15  

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              芯片光刻的流程詳解(一)

              在集成電路的制造過程中,有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因為有了它,我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。LCD市場助力全球LCD面板總出貨面積增長,LCD光刻膠需求增加。現(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國人Nicephore niepce在各種材料光照實驗以后,開始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過2、3小時的日曬,透光部分的瀝青明顯變硬,而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。通過用強(qiáng)酸刻蝕玻璃板,Niepce在1827年制作了一個d’Amboise主教的雕板相的產(chǎn)品。

              Niepce的發(fā)明100多年后,即第二次大戰(zhàn)期間才應(yīng)用于制作印刷電路板,即在塑料板上制作銅線路。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動下,江瀚咨詢預(yù)計國際光刻膠市場規(guī)模在2022年可能突破100億美元。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶體管,當(dāng)時分辨率5um,如今除可見光光刻之外,更出現(xiàn)了X-ray和荷電粒子刻劃等更高分辨率方法。


              PC6-16000

              NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

              - 優(yōu)異的分辨率性能

              - 快速地顯影

              - 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

              - 耐受溫度100℃

              - 室溫儲存保質(zhì)期長達(dá)3 年

              NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

              NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

              NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

              NR9-6000PY 5.0μm -

              12.2μm  

              Resist Thickness

              NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

              NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

              NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

              NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm



              NR77-25000P,RD8


               品牌

               產(chǎn)地

               型號

               厚度

               曝光

               應(yīng)用

               加工

               特性

               Futurrex

               美國

               NR71-1000PY

               0.7μm~2.1μm

               高溫耐受

               用于i線曝光的負(fù)膠

               LEDOLED、

                   顯示器、

               MEMS、

                   封裝、

                   生物芯片等

                   金屬和介電

                   質(zhì)上圖案化,

                   不必使用RIE

                   加工器件的永

                  組成

                  (OLED顯示

                   器上的間隔

                   區(qū))凸點、

                   互連、空中

                   連接微通道

                   顯影時形成光刻膠倒

                   梯形結(jié)構(gòu)

                   厚度范圍:

                   0.5~20.0 μm

                   i、g和h線曝光波長

                   對生產(chǎn)效率的影響:

                   金屬和介電質(zhì)圖案化

                   時省去干法刻蝕加工

                   不需要雙層膠技術(shù)

               NR71-1500PY

                1.3μm~3.1μm

               NR71-3000PY

               2.8μm~6.3μm

               NR71-6000PY

               5.7μm~12.2μm

               NR9-100PY

               粘度增強(qiáng)

               NR9-1500PY

               NR9-3000PY

               2.8μm~6.3μm

               NR9-6000PY

               NR71G-1000PY

                負(fù)膠對  g、h線波長的靈敏度

               NR71G-1500PY

               NR71G-3000PY

               NR71G-6000PY

               NR9G-100PY

               0.7μm~2.1μm

               NR9G-1500PY

               1.3μm~3.1μm

               NR9G-3000PY

               NR9G-6000PY

               耐熱溫度

               PR1-500A

               0.4μm~0.9μm




              發(fā)展

              Futurrex在開發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史

              我們的客戶一直在同我們共同合作,創(chuàng)造出了很多強(qiáng)勢的專利產(chǎn)品。

              在晶體管(transistor) ,封裝,微機(jī)電。顯示器,OLEDs,波導(dǎo)(waveguides) ,VCSELS,

              成像,電鍍,納米碳管,微流體,芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術(shù)突破。

              目前Futurrex有數(shù)百個專利技術(shù)在美國專利商標(biāo)局備案。

              Futurrex 產(chǎn)品目錄

              正性光刻膠

              增強(qiáng)粘附性正性光刻膠

              負(fù)性光刻膠

              增強(qiáng)粘附性負(fù)性光刻膠

              先進(jìn)工藝負(fù)性光刻膠

              用于lift-off工藝的負(fù)性光刻膠

              非光刻涂層

              平坦化,保護(hù)、粘接涂層

              氧化硅旋涂(spin-on glas)

              摻雜層旋涂

              輔助化學(xué)品

              邊膠清洗液

              顯影液

              去膠液

              Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無需加增粘劑(HMDS)


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