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發布時間:2020-12-29 10:38  
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光刻膠簡介
賽米萊德——專業光刻膠供應商,我們為您帶來以下信息。
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展,更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工業的,以后才用于電子工業。 [1] 光刻膠是一種有機化合物,它被紫外光曝光后,在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面,而后被干燥成膠膜。
光刻膠應用
光刻膠是一種具有光化學敏感性的功能性化學材料,是由光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,其中,樹脂約占50%,單體約占35%。它能通過光化學反應改變自身在顯影液中的溶解性,通過將光刻膠均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上,利用它的光化學敏感性,通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設計在掩膜版上的圖形轉移到襯底上。
光刻膠常被稱為是精細化工行業技術壁壘的材料,是因為微米級乃至納米級的圖形加工對其專用化學品的要求極高,不僅化學結構特殊,品質要求也很苛刻,所以生產工藝復雜,需要長期的技術積累。
被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作,是電子制造領域的關鍵材料之一。下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細加工,同時在LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應用,是微細加工技術的關鍵性材料。
選擇光刻膠需要注意什么
光刻加工工藝中為了圖形轉移,輻照必須作用在光刻膠上,通過改變光刻膠材料的性質,使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被拷貝在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是較好的,但實際應用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮,需要對光刻膠進行合理的選擇。
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光刻膠介紹
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光刻膠是電子領域微細圖形加工關鍵材料之一,是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,其溶解度發生變化,經適當溶劑處理,溶去可溶性部分,然后得到所需圖像。 光刻膠作為技術門檻極高的電子化學品一直被國際企業壟斷。 隨著大力研發和投入, 國內企業已逐步從低端 PCB 光刻膠發展至中端半導體光刻膠的量產。