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發布時間:2021-07-06 02:32  
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1級:主要應用于電子工業,這是目前對凈化工程要求高的環境,集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業技術領域的突飛猛進,對潔凈室的要求越來越高。及時生產間內的例子直徑僅有1微米,也會使產品壽命受到影響。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"要說凈化工程在發展的前景方面,形勢還是非常好的,市場需求更是一片大好。因為我們國家的制藥、電子信息等行業都在迅速發展,所以對凈化工程行業的發展起到了帶動的作用。在這里需要提醒大家的是自從我們國家的醫方面的改條文GMP-2010發布之后,既推動了生物醫和食品化工行業的發展,也間接的推動了凈化工程行業的發展。而且相關方面支持也讓凈化工程行業的發展機遇推到了非常好。

凈化工程的步的關鍵是設計,工程設計水平的好與壞將直接關系到整個工程之后的施工,還會影響凈化工程今后的穩定性、可靠性、經濟性。潔凈室的構成是由下列各項系統所組成(在所組成的系統分子中是缺一不可的),否則將無法構成一完整且品質良好的潔凈室。排風系統有一般排風系統、有機氣體排風系統、酸性氣體排風系統、堿性氣體排風系統等,凈化車間設計時,要根據實際情況選擇。

壓力差的維持依靠新風量,這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。凈化工程的一般施工程序:粉塵作業,無塵作業后,不允許交叉作業。 否則會影響項目的質量。 也就是說,在完成所有粉塵產生操作之后,可以進行無塵操作。相對濕度越高,粘附的難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。

凈化工程的一般施工程序:粉塵作業,無塵作業后,不允許交叉作業。 否則會影響項目的質量。 也就是說,在完成所有粉塵產生操作之后,可以進行無塵操作。一般潔凈室高度控制在2.60米,對個別較高的設備可在局部加高,而不宜提高潔凈區的高度。布置工藝的流程盡可能短,減少交叉往復,、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室,除配備產品工序要求的用室外,還應配備潔具室、洗衣間、暫存室等,每間用室相互,凈化工程的面積應在保證基本要求前提下,與生產規模相適應。
