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              發布時間:2020-12-19 17:30  

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              主要工藝:目前,物理氣相沉積(PVD)技術主要包括真空陰極弧物理蒸發、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發(ARC):真空陰極弧物理蒸發過程包括將高電流,低電壓的電弧激發于靶材之上,并產生持續的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發出來形成高度激發的離子束,在含有惰性氣體或反應氣體的真空環境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發靶材的離化率在90%左右,所以與真空磁控離子濺射相比,沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結合力。



              但由于金屬離化過程非常激烈,會產生較多的有害雜質顆粒,涂層表面較為粗糙。②磁控離子濺射(SPUTTERING):真空磁控離子濺射過程中,ya離子被被加速打在加有負電壓的陰極(靶材)上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4-6eV的金屬離子。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上,形成涂層薄膜。由于金屬離子能量較低,涂層的結合力與硬度也相應較真空陰極弧物理蒸發方式差一些,但由于其表面質量優異被廣泛應用于有表面功能性和裝飾性的涂層領域中。



              在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴散速度,因而可以控制浸鍍層厚度的增長,當鋅液中Ni含量為0.06%時,Ni含量可達0.8%,加入Ni后厚度增長明顯得到控制,因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長,并能改善鋅液的流動性能。因此,使用鋅鎳合金進行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻,表面更光亮,鋅花少。

              總之,熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復雜,產生的原因也較多,解決辦法是多方面的,需要做大量艱若細致的工作,使熱鍍技木提高一步。


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