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              真空鍍膜反光杯加工廠家服務至上 佛山錦城鍍膜

              發布時間:2021-06-29 04:07  

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              物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。

              真空蒸鍍:在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發,然后凝結在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。

              濺射:濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材(陰極),使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉積的過程。

              離子鍍:離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發離子化,并在這些荷能離子轟擊基體(工件)表面并同時沉積在其上形成鍍膜。


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              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:

              真空度:真空度是指處于真空狀態下氣體的稀薄程度,用壓強表示,壓強越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

              ya氣越少,靶材濺射量越少,但真空度越高,氣體分子自由程越大,散射越少,粒子碰撞幾率越小,粒子遷移過程中損失的動量越少,沉積速率越大


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              烘烤溫度:真空室抽氣時烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣,這是保證膜色調純正的重要因素之一。要注意的是,我們的設備一般采用加熱棒烘烤,以熱電偶測溫,熱電偶的感溫端位置不能靠近發熱棒,否則不能反映爐內環境和工件的實際溫度。

              輝光清洗:對工件施加負偏壓,產生輝光放電,利用ya離子轟擊工件表面,這種輝光放電清洗作用比較柔和,一般采取由弱到強的轟擊清洗順序,是怕工件太臟時一開始就強轟擊,可能產生強烈的打火而損傷工件。


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