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              磁控鍍膜機公司信賴推薦「沈陽鵬程」

              發布時間:2021-08-12 15:38  

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              臥式磁控濺射鍍膜機

              以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產磁控濺射產品,歡迎新老客戶蒞臨。

              主要用途:  

              用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。  

              系統組成:  

              主要由真空室系統濺射室、靶及電源系統、樣品臺系統、真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、電控系統、計算機控制系統及輔助系統等組成。



              磁控濺射的種類介紹

              磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

              靶源分平衡式和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。公司生產、銷售磁控濺射產品,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,大致可分為平衡態磁控陰極和非平衡態磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加了碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高。

              但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區域所受離子轟擊較小。如果您想要了解更多磁控濺射產品的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。非平衡磁控濺射技術,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片磁控濺射區域的等離子體密度和氣體電離率。不管平衡還是非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定了一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶,如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源。

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              磁控濺射鍍膜機導致不均勻因素哪些?

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              原理上講,兩點:氣場和磁場

              磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材,濺射出粒子沉積到基材上,整體靶材的電壓幾乎一致,不影響濺射速率。

              0.4Pa的氣場情況是濺射速率較高的情況,氣場變化,壓強變大和變小都會影響濺射速率。

              磁場大,束縛的自由電子增多,濺射速率增大,磁場小,束縛的自由電子就少,濺射速率降低。

              穩定住氣場和磁場,濺射速率也將隨之穩定。

              在實際情況下,氣場穩定,需要設計布氣系統,將布氣系統分級布置,保障鍍膜機腔體內不同位置的進氣量相同,同時,布氣系統、靶材、基材等要遠離鍍膜機的抽氣口。小型自動磁控濺射儀沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業磁控濺射產品供應商,我們為您帶來以下信息。需要穩定磁場,用高斯計測量靶材表面磁場強度,由于磁場線本身是閉合曲線,靶材磁場回路兩端磁場強度自然比中間位置強,可以選擇用弱磁鐵,同時,基材要避開無法調整的磁場變化較大的部分。

              另外,在設備結構設計方面,磁控濺射過程中,需要基材與靶材保持同軸,如果旋轉、直線運行的話,也要同軸旋轉、直線運行。




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