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發布時間:2023-04-06 04:15  





如果EDI超純水設備壓力過高,應及時檢查水閥、管道堵塞、濃水調節等因素。逐一檢查故障并采取相應的解決方案。常見解決方案:1、增加上游凈化水壓力,根據RO入口截止閥調整濃水和產水壓力。2、打開高壓泵出口閥和RO入口閥,或關閉濃水管道上的針閥。為了保證EDI超純水設備的正常運行和使用壽命,電子超純水設備,我們在日常使用中應多觀察并及時記錄。如果遇到任何問題,我們應與供應商保持聯系,半導體純水設備,及時排除故障并解決,以避免設備故障造成不必要的損失。

EDI超純水設備應用行業
1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。
2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。
3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。
4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。
5、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液。
6、晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制。
7、集成電路生產中高純水清洗硅片
8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。
9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。
10、顯像管、螢光粉生產。
11、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗。
12、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料。
13、實驗室和中試車間。
14、汽車、家電表面拋光處理。
15、光電產品、其他高科技精微產品。

在半導體生產中,超純水主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設備的冷卻水、電鍍溶液的配制。集成電路產品的質量與產量密切相關。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,保定純水設備,重金屬(Au、Ag、Cu等)會降低PN結的耐壓力,III族元素 (B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化。細菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會使p型硅片局部變為N型硅片,導致器件性能下降。水中的顆粒,包括細菌,如果附著在硅片表面,會導致短路或性能惡化。可見,超純水在半導體行業的必要性。


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