河源高真空鍍膜設備“本信息長期有效”

離子鍍膜設備的操作規范是怎樣的？1、設備中的真空管道、靜態密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規定。2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規管，分別測量各部位的真空度。當發現電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩定。

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發結晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發過程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達一定程度噴射出來的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來源為離子，并且微粒飛翔過程中有明顯離子狀態，并使用磁場控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

實驗室中使用小型鍍膜設備我們在實驗室中使用的基本上都是小型的鍍膜設備，下面我們就來了解一下這種設備。用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發源和工作物表面所產生的氣體。