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蒸發鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小

組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

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真空鍍膜基礎知識

鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，真空鍍膜哪里有，離子注入法，擴散法，電鍍法，真空鍍膜，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法，化學氣相沉積法和放電聚合法等。

真空蒸發，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術是薄膜制作技術的基礎，真空鍍膜多少錢，獲得并保持所需的真空環境，是鍍膜的必要條件。

現代真空鍍膜機膜厚測量及監控方法

涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅動的蒸發源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發率。只要儀器和系統控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監測代替光學厚度的涂層質量。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區域，導致薄膜的重大錯誤。 光學監測是一種涂層優選的監控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。

精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學厚度的監測。optimalswa-i-05單一波長的光學監測系統，是間接控制，鍍膜機的光學監測軟件結合王博士的發展，有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少終的誤差的理論方法，真空鍍膜系統，提供監測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監控包括不規則的膜。

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