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              發(fā)布時(shí)間:2021-09-20 18:23  

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              物理氣相沉積技術(shù)表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過(guò)低壓氣體(或等離子體)過(guò)程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。 物理氣相沉積的主要方法有,真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜,及分子束外延等。發(fā)展到目前,物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。


              真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括以下幾種:

              1、真空蒸鍍

              其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片。

              2、濺射鍍膜

              濺射鍍膜是真空條件下,帶正電的離子撞擊,使其射出原子,濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

              3、離子鍍膜

              利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,并在離子轟擊下,將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。



              真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

              蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。是常用鍍膜技術(shù)之一。

              真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要,直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理,表面污染來(lái)自工件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、 機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物,為了避免加工過(guò)程中造成的不良。