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發布時間:2021-09-24 22:46  
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PVD是物理氣相沉積技術的簡稱,是指在真空條件下,采用物理的方法將材料(俗稱靶材或膜料)氣化成氣態分子、原子或離子,并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術,常見的PVD沉積技術有:蒸發技術、濺射技術、電弧技術。
目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復合鍍層)為主。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學鍍、物理氣相沉積等。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。
在選擇真空鍍膜設備時會考慮設備的各種性能特點,結合自身所鍍產品的需要綜合考核
根據設備使用特點,可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。
真空鍍膜設備充氣方式的選擇。
根據工藝要求選擇鍍制方式及形式。
夾具運轉形式,用戶可根據基片尺寸及形狀提出相應要求,轉動的速度范圍及轉動精度:普通可調及變頻調速等。
根據工藝要求選擇不同規格及類型的鍍膜設備,其類型有電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。