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發布時間:2020-11-13 06:04  

形成裝置及影響因素
選擇適宜的放電方式可獲得不同性質和應用特點的等離子體,通常,熱等離子體是氣體在大氣壓下電暈放電產生,冷等離子體由低壓氣體輝光放電形成。
熱等離子體裝置[4]是利用帶電體(如刀狀或針狀和狹縫式電極)造成不均勻電場,稱電暈放電,使用電壓和頻率、電極間距、處理溫度和時間對電暈處理效果都有影響。電壓升高、電源頻率增大,則處理強度大,處理效果好。但電源頻率過高或電極間隙太寬,會引起電極間過多的離子碰撞,靜電場清洗機,造成不必要的能量損耗;而電極間距太小,會有感應損失,也有能量損耗。處理溫度較高時,表面特性的變化較快。處理時間延長,極性基團會增多;但時間過長,表面則可能產生分解物,形成新的弱界面層。






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