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離子束刻蝕機

離子束分析具有一定能量的離子與物質相互作用會使其發射電子、光子、X射線等，還可能發生彈性散射、非彈性散射以及核反應，產生反彈離子、反沖核、γ射線、氫核、氚核、粒子等核反應產物，聚焦離子束刻蝕機品牌，可以提供有關該物質的組分、結構和狀態等信息。利用這些信息來分析樣品統稱離子束分析。在離子束分析方法中，比較成熟的有背散射分析X射線熒光分析、核反應分析和溝道效應（見溝道效應和阻塞效應）與其他分析相結合的分析方法等。此外，聚焦離子束刻蝕機，利用低能離子束還可作表面成分分析，如離子散射譜(ZSS)、次級離子質譜(SZMS)等。超靈敏質譜（質譜）、帶電粒子活化分析、離子激發光譜、離子激發俄歇電子譜等正在發展中。用于離子束分析的MV級已有專門的商業化設備。

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離子束刻蝕是利用離子束直接轟擊工件，聚焦離子束刻蝕機報價，將工件上的材料濺射出來，實現材料去除的目的。離子束刻蝕是純物理刻蝕過程，在各種常規刻蝕方法中具有分辨率較高、陡直性較好的特點。應用于在基板表面拋光或材料的去除，尤其適用于金屬材料薄膜的刻蝕，聚焦離子束刻蝕機多少錢，如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、niCr等。

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刻蝕機

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刻蝕機是基于真空中的高頻激勵而產生的輝光放電將四氟化碳中的氟離子電離出來從而獲得化學活性微粒與被刻蝕材料起化學反應產生輝發性物質進行刻蝕的。同時為了保證氟離子的濃度和刻蝕速度必須加入一定比例的氧氣生成二氧化碳。 　　

刻蝕機主要對太陽能電池片周邊的P—N結進行刻蝕，使太陽能電池片周邊呈開路狀態。也可用于半導體工藝中多晶硅，氮化硅的刻蝕和去膠。

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