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真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當的方式使鍍膜材料蒸發，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離，在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下，蒸發物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優點。

表離子鍍的種類及其特點

種類蒸發源離化方法工作環境特點用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應氣體離化率高，蒸發速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調頻激勵法電阻、電子束射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應氣體離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差光學、半導體等鍍件

電場蒸發法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結合力強電子元件

活性反應法電子束二次電子dc:200v反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時間有一個采購光學鍍膜機的客戶簽訂協議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協議完成的后一個環節，我們的銷售培訓了大量的設備相關的操作知識和注意事項，客戶也學到了不少相關的知識。今天至成真空小編也再次詳細和大家講解一下真空鍍膜機光學鍍膜加工上應該注意的事項，加強大家的設備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%?，F代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。

真空鍍膜機分類

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。主要是分成蒸發和濺射兩種。在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉 自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。