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發布時間：2021-10-25 09:16
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真空鍍膜機設備真空鍍膜機系統組成
真空鍍膜機等離子體束濺射鍍膜機主要由射頻等離子體源、真空獲得系統、電磁線圈（發射線圈及匯聚線圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統等部分構成。其顯著特點是它的等離子體發生控制系統，其示意圖如圖1所示。等離子體發生控制系統是鍍膜機中的關鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個電磁線圈。當兩個線圈同向通過電流時，線圈合成的磁場將引導等離子體源中產生的電子沿磁場方向運動，從而使等離子體束被約束在磁場方向上。同時靶材加有負偏壓，使濺射離子在電場的作用下加速撞擊靶表面，產生濺射作用。
真空鍍膜機等離子體發生控制系統
真空鍍膜機這種鍍膜機具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過調節靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進行調節。等離子體發生裝置與真空室的分離設計是實現濺射工藝參數寬范圍可控的關鍵，而這種參數闊范圍的可控性使得特定的應用能夠獲得優化的工藝參數。此外，還可以通過控制系統的真空度來進行濺射速率的調節。
真空鍍膜機中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時濺射速率與靶偏壓的關系，其中恒定電流時射頻功率為500W。
真空鍍中對底涂層的要求：
①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結合力，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。
②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應力小、耐熱性能好。
③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。
④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。
⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。
真空鍍對面涂層的要求：
①與鍍膜層要有良好的接觸性能;
②與底涂層要有一定的相溶性;
③成膜性能與施涂性能優良;具有適當的機械強度;
④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強。
由于產品的特殊需要，在面涂層上還可進一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。
真空鍍膜機鍍膜效果與質量如何保障
很多客戶采購鍍膜機的時候，會咨詢我們一些關于真空鍍膜機相關的專業問題，比較再乎后期產品鍍膜質量概率的客戶，都會經常請教我們關于真空鍍膜機鍍膜效果與質量方面的問題，比如真空鍍膜機在運行的時候，該如何保證鍍膜質量，要注意哪些細節，今天至成小編借此為大家詳細介紹一下真空鍍膜機鍍膜，效果和質量該如何保障。
大家都知道，真空鍍膜是必須保持在真空環境下進行的才行。因此真空鍍膜機若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。但是，需要鍍膜材料表面是沒辦法保證是完全無灰塵的，因此，為了盡量減小材料表面灰塵的前提下，真空鍍膜機鍍膜的時候必須要注意以下幾點才行。
（1）真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；
（2）規范操作人員及操作要求，包括穿戴專業的服裝、手套、腳套等；
（3）嚴格處理襯底材料，做到清潔干凈，合乎工藝要求；
（4）源材料符合必要的純度要求；
（5）保證設施設備及操作環境清潔。如材料、樣品放置地環境要求，環境溫度濕度要求等；
（6）降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。
操作真空鍍膜機是否有注意以上的幾條細節事項，直接影響后期真空鍍膜機鍍膜效果與質量，細節注意好了，自然鍍膜質量和效果概率也大大提高了。
