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發布時間:2020-11-05 16:04  






濺射鍍膜機濺射鍍技術應用
蒸發鍍應用新型電極 引入裝置,接觸電阻小且可靠;磁控濺射應用鍍膜材料廣泛,各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料;結構緊湊、占地面積小;磁控、蒸發共用兩臺立式工件車,操作 方便、。 (或雙門蒸發、磁控兩用機) 公司業務范圍真空鍍膜成套設備與技術,真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件,真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。真空設備故障診斷與排除、老 產品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術研究,咨詢服務。新技術、新設備、新工藝公司新開發的磁控、蒸發多用鍍膜機,配用改進型高真空抽 氣系統及全自動控制系統,抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理 想設備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、*膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應用在光學、電子、通訊、航空等領域。


我國真空鍍膜機行業發展現狀和前景分析
當前我國真空鍍膜設備行業等傳統制造業產能過剩已經顯現,倒逼效應顯著,國家大力發展環保產業,對傳統電鍍行業予以取締或轉型或限產,這正是離子鍍膜行業發展的大好時機。真空鍍膜的高性價比以及傳統電鍍對環境的污染迫使真空鍍膜成為了主流,各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備不斷增加。
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危害磁控濺射勻稱性的要素
創世威納——技術**磁控濺射鍍膜機經銷商,人們為您提供下列信息內容。
靶基距、標準氣壓的危害靶基距都是危害磁控濺射塑料薄膜薄厚勻稱性的關鍵加工工藝主要參數,塑料薄膜薄厚勻稱性在必須范圍之內隨之靶基距的擴大有提升的發展趨勢,磁控濺射鍍膜機,無心插柳工作中標準氣壓都是危害塑料薄膜薄厚勻稱性關鍵要素。可是,這類勻稱是在小范圍之內的,由于擴大靶基距造成的勻稱性是提升靶上的一點兒相匹配的板材上的總面積造成的,而提升工作中標準氣壓是因為提升物體光學散射造成的,顯而易見,這種要素只有在小總面積范圍之內起功效。



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