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              單靶磁控濺射儀報價多重優惠「多圖」

              發布時間:2021-10-18 12:44  

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              光纖磁控濺射鍍膜機組成

              以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,希望對同行業的朋友有所幫助。

              設備用途:

              在光纖表面鍍制納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。配有陽極層離子源進行清洗和輔助沉積,同時設備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質量和牢固度。樣品臺可鍍制多種型號光纖產品

              系統主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。



              磁控濺射“磁控反應”介紹

              磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。冷卻是一切源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產、銷售磁控濺射產品,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!



              磁控濺射鍍膜機的工作原理是什么?

              磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與原子發生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與原子發生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用( E X B drift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運動。組分均勻性:蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會對成膜有很大關系。在E X B shift機理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年磁控濺射產品行業經驗,專注磁控濺射產品研發定制與生產,先進的磁控濺射產品生產設備和技術,建立了嚴格的產品生產體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話!!!



              濺射鍍膜的特點

              濺射就是從靶表面撞擊出原子物質的過程。濺射產生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

              濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點:

              1.任何物質都可以濺射, 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

              2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

              3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

              4.膜層厚度可控性和重復性好。

              以上就是為大家介紹的全部內容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產品的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。







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