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              磁控濺射鍍膜機詢問報價「在線咨詢」

              發布時間:2020-12-14 07:09  

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              真空磁控濺射鍍膜

              說白了無心插柳就是說用荷能物體(一般 用稀有氣體的正離子)去轟擊固態(下列稱靶材)表層,進而造成靶材表層上的分子(或分子結構)從在其中逸出的這種狀況。這一狀況是格洛夫(Grove)于1842年在試驗科學研究陰極浸蝕難題時,陰極原材料被轉移到真空管內壁而發覺的。不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。

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              濺射鍍膜機濺射鍍技術應用

              蒸發鍍應用新型電極 引入裝置,接觸電阻小且可靠;磁控濺射應用鍍膜材料廣泛,各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料;結構緊湊、占地面積小;磁控、蒸發共用兩臺立式工件車,操作 方便、。 (或雙門蒸發、磁控兩用機) 公司業務范圍真空鍍膜成套設備與技術,真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件,真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。真空設備故障診斷與排除、老 產品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術研究,咨詢服務。新技術、新設備、新工藝公司新開發的磁控、蒸發多用鍍膜機,配用改進型高真空抽 氣系統及全自動控制系統,抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理 想設備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應用在光學、電子、通訊、航空等領域。當時low-e與中空都是鍍膜廠做的,下邊玻璃加工廠根本無法介入,而現在鍍膜廠只需生產玻璃鍍膜原片。


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              磁控濺射的原理

              創世威納—磁控濺射供應商,我們為您帶來以下信息。


              成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好,可實現大面積鍍膜。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。

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